ผงขัดละเอียด FO 1500mesh D50: 5.5±0.5um
| รายการ | ขนาด | ความถ่วงจำเพาะ | อัล2โอ3 | ซิโอ2 | เฟ2โอ3 | ไทโอ2 | ZrO2 |
| ผงขัดเงา FO | 1500 เมช | ≥3.90 | ≥40.5% | ≤20.0% | ≤0.7% | ≤2.0% | ≤33.0% |
การกระจายขนาดอนุภาค (PSD) ของผงขัดละเอียด FO 1500mesh D50: 5.5±0.5 ไมโครเมตร
| ขนาด | ด0(ม) | ดี3(อุม) | D50(หนึ่ง) | ดี94(ไมโครเมตร) |
| 1500 เมช | ≤19.0 | ≤17.0 | 5.5±0.5 | ≥3.0 |
การใช้งานหลักของผงขัดเงา FO
–การเจียรและการขัดแผ่นเวเฟอร์เซมิคอนดักเตอร์
–การตกแต่งพื้นผิวของกระจกออปติกชนิดต่างๆ
–การเจียรและขัดเลนส์ ปริซึม กระจก ตัวกรอง ฯลฯ ที่ทำจากผลึกทางแสง
–การตกแต่งพื้นผิวของวัสดุเพียโซอิเล็กทริก
การบรรจุผงขัดเงา FO
ถุงพีวีซี 10 กก. + พาเลท
