เทียบเท่าผงขัดเงา Fujimi FO 1200
| รายการ | ขนาด | ความถ่วงจำเพาะ | อัล2โอ3 | ซิโอ2 | เฟ2โอ3 | ไทโอ2 | ZrO2 |
| ผงขัดเงา FO | 1200# | ≥3.90 | ≥45.0% | ≤20.0% | ≤0.5% | ≤2.0% | ≤33.0% |
การกระจายขนาดอนุภาค (PSD) ของผงขัด FO 1200
| ขนาด | ด0(ม) | ดี3(อุม) | D50(หนึ่ง) | ดี94(ไมโครเมตร) |
| #1200 | ≤23.0 | ≤20.0 | 7.1±0.7 | ≥4.0 |
ผงขัดเงา FO การใช้งานหลัก
–การเจียรและการขัดแผ่นเวเฟอร์เซมิคอนดักเตอร์
–การตกแต่งพื้นผิวของกระจกออปติกชนิดต่างๆ
–การเจียรและขัดเลนส์ ปริซึม กระจก ตัวกรอง ฯลฯ ที่ทำจากผลึกทางแสง
–การตกแต่งพื้นผิวของวัสดุเพียโซอิเล็กทริก
การบรรจุผงขัดเงา FO
ถุงพีวีซี 10 กก. + พาเลท
