แผ่นเวเฟอร์อินเดียมฟอสไฟด์ที่บดด้วยอะลูมิเนียมออกไซด์
องค์ประกอบทางเคมีโดยเฉลี่ย
| อัล2โอ3 | ＞99.0% |
| ซิโอ2 | น้อยกว่า 0.2% |
| เฟ2โอ3 | น้อยกว่า 0.1% |
| Na2O | น้อยกว่า 1% |
คุณสมบัติทางกายภาพ
| ความแข็งโมห์ส | 9.0 |
| ความถ่วงจำเพาะ | >3.9 กรัม/ ซม³ |
| รูปร่าง | รูปทรงจาน |
การกระจายขนาดอนุภาค
การใช้งานหลัก
การเจียรแผ่นเวเฟอร์อินเดียมฟอสไฟด์, หินเจียรซิลิเกตขัดเงาขั้นสูง, หินเจียรฟีนอลบอนด์ขัดเงาขั้นสูง, เทปขัดเงาเคลือบความแม่นยำ, กระดาษขัดเงาเคลือบความแม่นยำ, การขัดโลหะแข็งถึงอ่อน, การขัดพลาสติกทางแสง, สารเติมแต่งสำหรับการเคลือบ, หินลับคม, การขัดแกลเลียมอาร์เซไนด์, การขัดซิลิคอน, สารเติมแต่งสำหรับชิ้นส่วนเครื่องจักรไฟฟ้าขนาดใหญ่, ผ้าขัดเงาเคลือบความแม่นยำ, สารขัดเงา, สารประกอบ, การเคลือบ, การขัดกระจกทางแสง, ตัวกรอง, การขัดผลึกควอตซ์, สารขัดถู, การขัดแผ่นเวเฟอร์ซิลิคอน, การขัดผลึก, การขัดเลนส์กระจกแข็ง, การขัดโลหะอ่อน, หินเจียรเคลือบแก้วขัดเงาขั้นสูง
บรรจุภัณฑ์ : ถุงพลาสติกขนาด 10 กก. สองถุงในกล่องกระดาษหนึ่งกล่อง กล่องกระดาษ 50 กล่องต่อพาเลทหนึ่งอัน
 |  |  |
| 10 กก./ถุง | 20 กก./กล่อง | 50 กล่อง/พาเลท |
